问答题 1分

新建电子元器件厂项目 顺达公司拟在本省某开发区内建设一座电子元器件厂。该省级开发区有集中的污水处理厂和供热系统,其他环保基础设施也较完善,目前开发区污水处理厂的设计处理能力为1 0万m3/d,实际处...

新建电子元器件厂项目


顺达公司拟在本省某开发区内建设一座电子元器件厂。该省级开发区有集中的污水处理厂和供热系统,其他环保基础设施也较完善,目前开发区污水处理厂的设计处理能力为1 0万m3/d,实际处理能力为6.5万m3/d 。污水处理厂接管水质要求为COD 350 mg/L、NH3-N 25 mg/L、TP 6 mg/L,其他水质标准应当满足《污水综合排放标准》(GB 8978-1996)表1及表4三级排放标准(氟化物20 mg/L、总铜2.0 mg/L、总砷0.5 mg/L)。电子元器件生产以硅片为基材,经氨水清洗、氢氟酸或硫酸蚀刻砷化氢掺杂、硫酸铜化学镀等工序得到最终产品。其中掺杂工序和化学镀工序流程如图1所示。经过工程分析可知,拟建项目在生产过程中产生的清洗废水、蚀刻废水、尾气洗涤塔废水、化学镀废水将经过预处理后进入中和池,中和池出水排入开发区污水处理厂,废水预处理后的情况参见表1 。



氨水清洗工序产生的清洗废水中含氨量为0.02%,为降低废水中氨的浓度,拟采取热交换吹脱法除氨,氨的吹脱效率80%,吹脱出的氨经15 m高排气筒排放。《恶臭污染物排放标准》( GB 14554-93)中规定:1 5 m高排气筒氨排放量限值为4.9 kg/h 。



【问题】


根据上述背景材料,请回答以下问题:


1.给出掺杂工序和化学镀废水、废气的特征污染因子。


2.根据项目废水预处理方案,判断电子元器件公司废水能否纳入开发区污水处理厂?并说明理由。


3.列出掺杂工序和化学镀废水预处理生产的污泥处置要求。


4.评价本工程热交换吹脱法除氨废气达标情况,给出废气排放的控制措施。